Tecnologias de Géis para Unhas
publicado em 06/04/2020
Frank C. Pagano, PhD
ACT Solutions Corp., Newark DE, EUA
Este artigo analisa as tecnologias que existem por trás dos géis para unhas e as recentes tendências desses produtos. A fotoquímica dos monômeros, oligômeros e fotoiniciadores que servem como base dessas tecnologias também é analisada para que o leitor tenha melhor conhecimento do desempenho e dos desafios associados aos géis de unhas.
This article reviews the tecnologies behind gel nails and recent trends in them. The underlying photochemistry of monomers, oligomers and photoinitiators also is discussed, to give the reader a better understanding of the performance and challenges associated with gel nails.
En este artículo se analiza la tecnología que está detrás de geles para uñas y las tendencias recientes de estos productos. Fotoquímica de monómeros, oligómeros y fotoiniciadores que son la base de estas tecnologías también se analizan para que el lector tenga un mejor conocimiento del funcionamiento y de los retos asociados com los geles de uñas.
Os esmaltes de unhas devem funcionar tanto como decoração quanto como doadores de mais resistência a desgastes.1 Eles enfrentam um desgaste implacável, como qualquer outro produto de maquilagem, tornando-se opacos, descamados e finos. Usamos os dedos em quase tudo o que fazemos, como digitar, lavar os cabelos, fazer limpeza etc., de forma que as unhas ficam expostas a uma infinidade de agressões mecânicas e químicas. Portanto, as formulações de esmaltes de unhas, historicamente, têm incluído meios para melhorar seu desempenho contra o desgaste.1
O desafio em relação aos tradicionais esmaltes de unhas à base de nitrocelulose é que o revestimento é uma combinação de moléculas individuais de polímeros – nitrocelulose e polímeros modificadores, plastificantes, pigmentos, pigmentos de efeito e outros aditivos. O revestimento contém até mesmo alguns solventes residuais com elevados pontos de ebulição. Não há uma estrutura interna para a película, ou seja, não há uma ligação cruzada para manter juntos os polímeros e os demais materiais. Dessa forma, as agressões mecânicas e químicas podem levar a rachaduras que, por sua vez, podem causar descamação, floculação e perda de brilho da unha.
Outro aspecto do desgaste é a adesão da nitrocelulose e de outros polímeros à placa das unhas, que pode ser afetada por vários fatores. As diferenças físicas entre as unhas, como flexibilidade, conteúdo aquoso e aspereza/lisura da superfície podem influir na adesão da resina de nitrocelulose. Pode-se observar que algumas pessoas apresentam apenas leve descamação após quatro ou cinco dias depois de fazerem as unhas, enquanto outras já apresentam descamação severa em apenas um ou dois dias. Outro fator é o preparo das unhas antes da aplicação: as unhas devem estar bem limpas e sem resíduo oleoso para melhor receber a cobertura de esmalte e assim resistir melhor ao desgaste.
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1. FC Pagano. A review of nail polish: The industrial cosmetic, Cosm & Toil 126(5):372-380, 2011
2. US Pat 5,772,988. Nail enamel compositions from acetoacetoxy methacrylate copolymer, FC Pagano, AA Patil, RW Sandewicz, WL Anton, HJ Spinelli, consignado a Revlon Consumer Products Corp (10/5/1996)
3. www.nailsmag.com/article/108201/hard-vs-soft-a-closer-lookat-gels. Acesso em: 30/9/2014
4. www.intbeauty.com.au/MSDS/OPI_MSDS/GelColor_All_Shades_OPI_MSDS-246_IBS.pdf. Acesso em: 8/12/2014
5. www.cnd.com/pro-products/enhancements/gel-system/prepfi nish/brisa-gloss# Acesso em: 13/11/2014
6. NJ Turro et al. Probing the reactivity of photoinitiators for free radical polymerization: Time-resolved infrared spectroscopic study of benzoyl radicals, J Am Chem Soc 124(50):14952–14958, 2002
7. Y Yagci, S Jockusch, NJ Turro. Photoinitiated polymerization: Advances, challenges and opportunities, Macromolecules 43(15):6245–6260, 2010
8. NJ Turro et al. Photochemistry and photophysics of α-hydroxy ketones, Macromolecules 34(6):1619–1626, 2001
9. JC Dowdy, RM Sayre. Photobiological safety evaluation of UV nail lamps, Photochemistry and Photobiology 89:961-967, 2013
10. www.probeauty.org/docs/nmc/PBA%20-%20DrSayre%20UV%20Lamps%20Release%20v3.pdf Acesso em: 13/11/2014
11. www.cachemspecialty.com/products/29-gel-polish/origin-all-inone-gel-polish Acesso em: 13/11/2014
12. US Pat App 20130263875. Curable nail enhancements, T Burgess and AB Louis, consignada a ESSchem Inc. (10/10/2013)
13. www.sallyhansen.com/sites/default/fi les/global_miracle_gel_faq.pdf Acesso em: 12/10/2014
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